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介质反射膜

介质反射膜是一种光学薄膜,它通常由多层介质材料组成,具有反射特定波长范围的光线的能力。这种反射膜的原理是基于光的干涉和反射,通过控制薄膜的厚度和折射率,实现对特定波长光线的反射。


可以分为金属反射膜和全电介质反射膜。金属反射膜通常由金属材料制成,具有高反射率和宽光谱范围的优点。全电介质反射膜则由多层介质材料组成,具有高透射率和窄光谱范围的优点。


在光学领域有着广泛的应用,如光学仪器、激光器、光纤通信等。它可以用于提高光学系统的效率和性能,以及用于光学传感、光谱分析等领域。


介质反射膜的反射原理是基于光的电磁波理论。当光从一种介质进入另一种介质时,由于两种介质的折射率不同,光会发生折射。当光的折射角达到一定值时,光就会在介质与空气的交界面发生反射。介质反射膜就是利用这个原理,通过控制薄膜的厚度和折射率,实现对特定波长光的反射。制备过程中,需要选取合适的材料和工艺。常见的介质材料有二氧化硅、氮化硅、氟化镁等,这些材料具有不同的折射率和附着力。制备过程中可以采用化学气相沉积、物理气相沉积等方法,通过控制沉积温度、气体流量等参数,得到具有所需厚度和折射率的薄膜。

介质反射膜在光学领域有着广泛的应用。它可以用于光学滤波器、光学镜头等,提高光学系统的性能和稳定性。此外,介质反射膜还可以用于太阳能电池、光纤通信等领域。例如,在太阳能电池中,介质反射膜可以减少光的吸收损失,提高太阳能电池的转化效率。在光纤通信中,介质反射膜可以作为光信号的反射器,实现光信号在不同光纤之间的传输。


介质反射膜


用途相关行业
光学器件在光学器件中起到重要的作用,如反射镜、分光镜等。
太阳能电池在太阳能电池中起到反射和透射控制的作用,提高光电转换效率。
显示器广泛应用于各类显示器中,如液晶显示器、有机发光二极管(OLED)显示器等,通过控制反射膜层的光学性质,实现显示器的亮度、对比度和颜色的调节,提高显示效果和观看体验。
光学传感器在光学传感器中用于实现对特定波长的光信号的高度选择性检测和测量。
环境监测在环境监测领域中用于气体传感器、生物传感器等。


    功能:它的功能是增加光学表面的反射率。

    类别:反射膜一般可分为两大类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。此外,还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。 

    金属反射膜:一般金属都具有较大的消光系数,当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。

    介质反射膜:电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射率。最简单的多层反射是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加

    介质膜基本是一维光子晶体形成了一个带隙,在这个带隙内光不支持传播就发生全反射了。要区别介质膜反射镜和金属反射镜,我们首先讨论一下单纯的介质和金属的区别是什么。

    在电磁波传播中决定电磁波传播性质的就是介电常数,介电常数的实部对应于光传播时候的电场振幅的比例,而虚部则对应于光的能量损耗。

    金属和介质最大的区别在于,金属的介电常数可以用Drude模型描述,一般是一个负的实部和比较大的虚部;而介质的介电常数则一般是一个正的实部。

    既然金属有比较大的虚部,就会导致有损耗,光在经过金属反射的时候就会被吸收,反射率可能只达到98、99;而介质则不会,因此特定条件下,反射率能达到真正的百分百。

    空气也是一种介质,空气入射介质发生反射,由于是介质(介电常数较小)到光密介质(介电常数较大)有半波损失,导致电磁波震荡损失一个相位;而空气入射金属时理想情况发生反射必定会产生相位差。

    那么,多层膜的反射又是怎么回事呢?

    介质膜反射镜是将一系列介电常数有区别的介质周期性堆叠在一起,在普通的均匀介质里,频率和波长的乘积是光速,这就是所谓的色散关系。周期性边界条件导致色散关系在倒空间(坐标以为量度)中被折叠,并且因为在布里渊区的边界上散射比较强,就会打开带隙。

    因此,以这个频率入射的光,直接就被结构反射出去了。这样的反射依旧继承了介质的优势——不会吸收。

    为什么要采用这样的结构呢?

    首先,是覆盖的波长范围是可设计的,而金属由于本身的原子性质(介电常数),所对应的反射波段是固定的;

    其次,由于完全不吸收,只要层数足够,反射率就极高。但是这种结构也有缺陷:①介质膜反射镜会很厚;②角度依赖很强;③介质膜反射镜成本会较高,而金属膜反射镜则没有这个要求。所以在反射的波段要求、热效应要求不高的情况下,选择金属反射镜更加合适。

介质膜曲线:

一般指标:R>99.5%@可见光或指定波段

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高反射膜

金属镜(Metallic Mirror)

    成本较低,反射波段较宽。

    一般用于反射率要求不是特别高,但是波段很宽的应用。

    因为存在部分吸收,因此限制了其在激光领域的应用。

全介质反射镜(Dielectric HR coatings )

    成本较高,反射波段较窄。

    反射率可以做到很高。

    反射波段范围有限,如加大反射波段范围,膜层镀制难度将提高。

    膜层较厚,应力较大,存在膜层脱落风险。

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镀膜基片

    指在什么材质上镀膜。基底往往是使用环境和用途决定。常见的镀膜基底选择? 如气体分析保护金多用氟化钙基底,普通反射镜用浮法玻璃,激光腔镜用硅基底,红外滤光片多用硅锗,可见及近红外多是玻璃,无氧铜多是镍和金等。

    氟化钙,氟化钡,氟化镁,蓝宝石,锗,硅,硫化锌,硒化锌,硫系玻璃,N-BK7,熔融石英等

镀膜材料

    附着在基底上的起到透射,反射,分光等作用的材料,可能是光学材料如硫化锌、氟化镁等,也可能是金属,如铝金等。目前成熟大批量光学镀膜材料多是颗粒状或是药片状,也有整块晶体镀膜靶材;金属镀膜材料多是丝及块状;基底,用途,和镀膜指标决定用什么镀膜材料

镀膜工艺

光学镀膜概念及原理

    镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变材料表面的反射和透射特性,达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。光学零件表面镀膜后,光在膜层层上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜层的折射率和厚度,可以得到不同的强度分布,这是干涉镀膜的基本原理。

镀膜

光学薄膜分类:

    增透膜:硅、锗、硫化锌、硒化锌等基底较多,氟化物较为少见。

    单波长、双波长、宽带

    反射膜:分介质与金属反射膜,金属反射膜一般为镀金加保护层。

    半反射、单波长、双波长、宽带

    硬碳膜 :也叫DLC膜,一般镀在硅、锗、硫系玻璃外表面,做保护/增透作用, 产品另一侧一般要求镀增透膜。 

    分光膜 :有些要求特定入射角情况下,可见光波段反射,红外波段透过,多用于光谱分析中。

    45度分光片、双色分束、偏振分束片&棱镜

    滤光膜:宽带、窄带

    激光晶体膜:YAG/YV04/KTP/LBO/BBO/LIND03

    紫外膜-增透:193/248/266/308/340/355,铝反射180-400nm 

    红外膜:CO210.6UM/YAG2940NM/SI&GE&ZNSE&ZNS

镀膜工序和设备

清洗设备:

    超声波清洗机:指清洗和烘干一体化的,可直接装盘镀膜。同时这个机器必须在洁净空间使用;

光学镜片的超声波清洗技术

    在光学冷加工中,镜片的清洗主要是指镜片抛光后残余抛光液、黏结剂、保护性材料的清洗;镜片磨边后磨边油、玻璃粉的清洗;镜片镀膜前手指印、口水以及各种附着物的清洗。

    传统的清洗方法是利用擦拭材料(纱布、无尘纸)配合化学试剂(汽油、乙醇、丙酮、乙醚)采取浸泡、擦拭等手段进行手工清擦。

这种方法费时费力,清洁度差,显然不适应现代规模化的光学冷加工行业。这迫使人们寻找一种机械化的清洗手段来代替。于是超声波清洗技术逐步进入光学冷加工行业并大显身手,进一步推动了光学冷加工业的发展。

    超声波清洗技术的基本原理,大致可以认为是利用超声场产生的巨大作用力,在洗涤介质的配合下,促使物质发生一系列物理、化学变化以达到清洗目的的方法。

    当高于音波(28~40khz)的高频振动传给清洗介质后,液体介质在高频振动下产生近乎真空的空腔泡,空腔泡在相互间的碰撞、合并、消亡的过程中,可使液体局部瞬间产生几千大气压的压强,如此大的压强使得周围的物质发生一系列物理、化学变化。

工艺流程:

  镀膜流程

等离子增强化学气相沉积 (PECVD):

    是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。因为利用了等离子的活性来促进化学反应,PECVD可以在较低的温度下实现

粒子辅助


等离子辅助气相沉积

    目前DLC膜常用制备方法。采用射频技术(RF-PACVD)将通入的气体(丁烷、氩气)离化,在极板自偏压(负)的吸引下,带正电的粒子向基板撞击,沉积在基板表面。

原理图

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