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单晶锗

单晶锗是一种锗晶体的晶格结构,只有一个晶格,具有优良的光学和电学性质。


单晶锗在光电子领域应用广泛,如电子光学器件中的重要材料,被广泛应用于通讯、计算机和医疗器械等领域。


在红外探测方面,单晶锗具有高灵敏度、高速度和高稳定性的特点,被应用于红外成像和夜视仪器中。此外,单晶锗还可用于太阳能电池、热电堆和辐射传感器等方面。



单晶锗是一种具有优异光学性能的材料,其原子结构具有立方结构,每个锗原子被四个等距的锗原子环绕,形成了一种非常稳定的结构。这种结构使得单晶锗具有良好的电学和光学性能。在光学方面具有高载流子迁移率,锗的电子和空穴迁移率都比硅高,这使得在一些特定应用中,如高速电子设备中,单晶锗可以提供更高的速度。此外,单晶锗具有良好的光学性能,能带宽度适中,可以吸收并发射一定范围内的光,特别是在红外区域,这使得单晶锗在光电子学和光纤通信等领域有着广泛的应用。

此外,相比于硅,单晶锗的工作温度范围更宽,这使得它在某些需要在极端温度下工作的设备中有应用潜力。单晶锗还具有高折射率和低吸收率,使其成为制造高性能红外光学器件的理想材料之一。在红外光学器件和红外探测器件的制造中有着广泛的应用。总之,单晶锗是一种具有优异光学性能的材料,在光电子学、光纤通信等领域以及高速电子设备中有广泛的应用前景。


材料数据表Material Data
光学特性Optical Properties
透过范围Transmission Range2-15μm
反射损耗Reflection Loss4.0028@10.6μm
吸收系数Absorption Coefficienet

1.3×10-3@3.8μm

3×10-2@10.6μm

结构StructureCubic Crystal System
解离面Cleavage Planes<111>
物理特性Physical Properties
密度Density[g/cm3]5.33
熔点Melting Point [℃]936
热导率ThermalConductivity [W/(m×K)]58.61 @ 293K
热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K]6.1 @ 298K
努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2]780
比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)]310
介电常数Dielectric Constant16.6 @9.37 GHz
杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa]102.7
剪切模量Shear Modulus(G) [GPa]67
体积模量Bulk modulus(K) [GPa]77.2
泊松系数Poisson Coefficient0.28
化学特性mical Properties
溶解度Solubility / g/LInoluble
分子量Molecular Weight / g/mol72.61


Ge透过率

单晶锗


用途相关行业
电子工业晶体管、太阳能电池
光电子学高速光探测器、光伏器件
红外镜头和其他光学元件光学仪器、光学加工
高分辨率辐射探测器核物理、天文学
晶体管和太阳能电池等领域半导体器件、集成电路


定制规格
材料名称MaterialSingle Crystals Germanium
可提供尺寸Available size3-300mm
生长方式Growing MethodCZ
类型TypeN,P
透过范围Transmittance range2-15μm
晶体结构Crystal StructureMonocrystalline
晶向Orientation<100>,<111>
毛坯形状Blank shape

Round,rectangular,wedge,lens,step drilled,special-shaped


单晶锗密度

5.323 g/cm³


单晶锗硬度

硬度为2.2至2.5,在常温下导热系数为34 W/m·K


单晶锗折射率

单晶锗的折射率不均匀系数为0.00005~0.0001


单晶锗的用途

1、半导体器件制造:可以用来制造高质量的半导体器件,如锗晶体管、锗二极管等。

2、红外光学:由于单晶锗对红外光具有良好的透明性,因此可以用于制造红外光学器件,如红外透镜、滤光片等。

3、辐射探测器:对辐射有很高的灵敏度,因此可以用来制造辐射探测器,如γ射线探测器、X射线探测器等。

4、晶体生长:可以作为晶体生长的基底,可以制备出其他半导体材料的单晶。

5、核反应堆:可以用于核反应堆的中子探测器,可以检测中子的流量和能量分布等信息。


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