紫外真空氟化钙
紫外真空氟化钙是一种在真空紫外(130nm-200nm)的宽波长谱区中具有良好透过率的晶体。这种材料具有高透过率、高稳定性、高耐热性和高化学稳定性等特性。
在光学方面具有高透光性，可以作为光学窗口、光学镜头等光学元件。其可见光响应的峰值分别在505nm和680nm处，分别是22%和70%，波长定位也非常准确，约有±0.2nm的置信度。此外还具有良好的抗UV特性。
紫外真空氟化钙还具有优良的折射性，可以满足宽波长范围的可见光增强。这种性能进一步提高了其机器视觉元件的光稳定性和精度，从而有效提升视觉任务的精度。
紫外真空氟化钙是一种具有优异性能的光学材料，主要应用于真空紫外线的传输和光谱分析。
1、具有高透光性和宽透射范围。它不仅在可见光和近紫外区域具有高透过率，而且在远紫外区域也有良好的透射性能。这使得紫外氟化钙成为一种优秀的光学材料，可以应用于真空紫外线的传输和光谱分析。
2、具有低双折射率和低色散。这意味着光线在通过紫外氟化钙时，其传播方向和速度不会发生明显的变化，从而保证了光学系统的精度和稳定性。
3、具有高热导性和高激光损伤阈值。这意味着它具有良好的热稳定性和抗激光损伤能力，可以在高功率激光系统中使用。
4、紫外氟化钙的化学稳定性高，可以在高温和强腐蚀性的环境中使用。此外，它的物理性质也相对稳定，不易受到物理环境变化的影响。
总的来说，紫外真空氟化钙是一种具有优异性能的光学材料，在光学、真空技术、高功率激光系统等领域都有广泛的应用前景。
| 材料数据表Material Data | |
| 光学特性Optical Properties | |
| 透过范围Transmission Range | 0.13-10μm |
| 透过率Transmittance | >94%@193nm-7.87μm |
| 折射率Refractive Index | 1.4288@2.5μm 1.39908@5μm |
| 反射损耗Reflection Loss | 5.4%@5μm(both surfaces) |
| 吸收系数Absorption Coefficienet | 7.8×10-4@2.7μm |
| 结构Structure | Cubic Crystal System |
| 解离面Cleavage Planes | <111> |
| 物理特性Physical Properties | |
| 密度Density[g/cm3] | 3.18 |
| 熔点Melting Point [℃] | 1420 |
| 热导率ThermalConductivity [W/(m×K)] | 9.71 @ 293K |
| 热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K] | 18.5 @ 273K |
| 努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2] | 158.3 |
| 比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)] | 854 |
| 介电常数Dielectric Constant | 6.76 @ 1 MHz |
| 杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa] | 75.8 |
| 剪切模量Shear Modulus(G) [GPa] | 33.77 |
| 体积模量Bulk modulus(K) [GPa] | 82.71 |
| 泊松系数Poisson Coefficient | 0.26 |
| 化学特性Chemical Properties | |
| 溶解度Solubility / g/L | 0.016g @ 20℃ |
| 分子量Molecular Weight / g/mol | 78.0748 |
| 用途 | 相关行业 |
| 光学应用 | 制备激光器的工作材料；制备光学玻璃、光学镜片等光学元件 |
| 电子元器件制造 | 制造电子元器件，如电容器、压电晶体等 |
| 微电子行业 | 紫外制造微电子器件和集成电路，如微处理器、存储器和传感器等 |
| 环保领域 | 用于处理含氟废水 |
| 定制规格 | |
| 材料名称Material | VUV Grade CaF2 |
| 可提供尺寸Available size | 3-420mm |
| 材料等级Material Grade | VUV |
| 透过范围Transmittance range | 130-200nm |
| 晶体结构Crystal Structure | Monocrystalline，Polycrystalline |
| 晶向Orientation | <111>，<110>，<100>，<001>，<220> |
| 毛坯形状Blank shape | Round，rectangular，wedge，lens，step drilled，special-shaped |
氟化钙应用
1、冶金行业：氟化钙在冶金行业中用于助燃剂和冶炼金属的助熔剂。它有助于降低耐火材料熔点，促进炉渣流动，使炉渣与金属分离，并增强金属的延展性和抗拉强度。
2、建材行业：在建材行业中，氟化钙可用于水泥、陶瓷和玻璃的生产。它有助于降低烧结温度和燃料消耗，增强烧结过程中熟料的液体粘度，促进硅酸三钙的形成。
3、化工行业：氟化钙在化工行业中主要用于生产氢氟酸和其他氟化合物。氢氟酸是由酸级萤石（萤石精矿）与硫酸在加热炉或槽中反应生成的。
4、光学仪器：由于氟化钙具有高透光率和低散射损失的特性，它在光学仪器制造中具有重要应用。它可以用于制造光学反射镜和折射镜，以及激光器中的光学元件。
5、医疗领域：氟化钙在医疗领域中可用于制造X射线、核磁共振成像等医学诊断仪器的吸收屏蔽材料，以及人造关节、牙齿填充等医疗器械。
6、激光器：在激光器中，氟化钙具有高抗辐射能力，可用于强辐射环境下的激光器。
氟化钙荧光吗
具有荧光现象。通常是在黑暗的环境中观察到的，这种现象是由氟化钙晶体中离子的电子转移和重新排列引起的。在黑暗的环境中，这些发射的光线能够被观察到，从而产生出荧光反应。这些光线的颜色通常是蓝色或紫色，有时也会出现其他颜色。这种荧光的强度和颜色会根据氟化钙的质量、形状、颜色、厚度等不同因素而有所变化。
氟化钙折射率一般是多少
1.428左右
紫外真空氟化钙的作用
多用在日盲探测器260~280NM或是紫外成像，可以起到消色差的作用，使噪音更低，像质更好。同时，也有部分氟化钙用在紫外真空观察窗口上或光谱分析上。
紫外真空氟化钙怎么处理
1、原料选择：选择高纯度的原材料，以控制杂质和晶体缺陷的产生。
2、晶体生长过程控制：在晶体生长过程中，需要控制其他元素的混入，并尽力提高200NM以下的透过率。
3、杂质和晶体缺陷的减少：通过特定的处理方法，如湿法冶金、化学沉淀法、电解法等，减少杂质和晶体缺陷的产生。
4、机械加工：将氟化钙晶体切割成所需尺寸和形状的窗口片或光学元件。
5、光学表面处理：对氟化钙晶体的光学表面进行抛光和镀膜处理，以提高其光学性能和耐辐照性能。
6、封装和测试：将处理后的氟化钙晶体封装在真空环境中，并进行测试，以确保其满足使用要求。
