单晶氟化钙
单晶氟化钙具有高透光性。对于红外辐射，其透过率超过80%，能够有效地传递红外光信号。因此被广泛应用于红外传感器、红外热像仪等设备中，作为其中的重要部件。其具有优异的热稳定性能。即使在高温环境下，它也能保持较好的结构稳定性和光学性能。这一特性使得它能够在高温条件下进行红外测量和监测，例如高温炉内的温度分布监测、高温工艺过程的红外成像等。
还具有抗腐蚀和耐化学性能。它对多种化学物质具有优异的稳定性，能够在酸、碱等腐蚀性环境中长时间使用。这种特性使得能够应用于化学领域中的红外分析、反应监测等工作。
单晶氟化钙还具有良好的机械强度和硬度。它的硬度较高，不易划伤和磨损，可以在恶劣的环境下保持清晰透明。这使得能够满足一些特殊工况下的需求，如航空航天、光学通信等领域。
1、具有高透光性，对于红外辐射具有很高的透过率。在红外光谱范围内，其透过率超过80%，能够有效地传递红外光信号。因此，单晶氟化钙被广泛应用于红外传感器、红外热像仪等设备中，作为关键部件发挥作用。
2、具有优异的热稳定性能。在高温环境下，其结构稳定性和光学性能都能保持较好。这一特性使得能够在高温条件下进行红外测量和监测，例如在高温炉内的温度分布监测、高温工艺过程的红外成像等场景中应用。
3、具有抗腐蚀和耐化学性能。在多种化学物质环境下，它都能保持稳定性，因此能够在化学领域中的红外分析、反应监测等工作得到应用。
4、具有良好的机械强度和硬度。其硬度较高，不易划伤和磨损，能够在恶劣的环境下保持清晰透明。这一特性使得单晶氟化钙能够满足一些特殊工况下的需求，如航空航天、光学通信等领域。
氟化钙光学作用
氟化钙在光学方面的作用主要是因其独特的晶体结构和光学性能。
1、作为一种透射性很好的光学材料，氟化钙广泛应用于透镜、棱镜、窗口等光学元件的制备。
2、氟化钙的折射率较高，使其成为制造高质量透镜的理想材料。
3、氟化钙还具有较低的散射率和吸收率，可用于制备光学滤光片和光学镜片等光学器件。
4、氟化钙在光学应用中还可以用于光学涂层。通过在光学元件表面涂覆特定材料，可以改变光线的反射、透射和吸收特性。
| 材料数据表Material Data | |
| 光学特性Optical Properties | |
| 透过范围Transmission Range | 0.13-10μm |
| 透过率Transmittance | >94%@193nm-7.87μm |
| 折射率Refractive Index | 1.4288@2.5μm 1.39908@5μm |
| 反射损耗Reflection Loss | 5.4%@5μm(both surfaces) |
| 吸收系数Absorption Coefficienet | 7.8×10-4@2.7μm |
| 结构Structure | Cubic Crystal System |
| 解离面Cleavage Planes | <111> |
| 物理特性Physical Properties | |
| 密度Density[g/cm3] | 3.18 |
| 熔点Melting Point [℃] | 1420 |
| 热导率ThermalConductivity [W/(m×K)] | 9.71 @ 293K |
| 热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K] | 18.5 @ 273K |
| 努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2] | 158.3 |
| 比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)] | 854 |
| 介电常数Dielectric Constant | 6.76 @ 1 MHz |
| 杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa] | 75.8 |
| 剪切模量Shear Modulus(G) [GPa] | 33.77 |
| 体积模量Bulk modulus(K) [GPa] | 82.71 |
| 泊松系数Poisson Coefficient | 0.26 |
| 化学特性Chemical Properties | |
| 溶解度Solubility / g/L | 0.016g @ 20℃ |
| 分子量Molecular Weight / g/mol | 78.0748 |
| 用途 | 行业 |
| 光学透镜 | 光学仪器制造、激光技术应用、光学材料制造等 |
| 红外传感器保护窗 | 红外传感器制造、红外热像仪制造等 |
| 高能探测器窗口 | 高能物理研究、核能研究等 |
| 激光谐振腔镜 | 激光器制造、激光应用等 |
| 光学涂层材料 | 光学元件制造、光学涂层服务等行业 |
| 定制规格 | |
| 材料名称Material | Single Crystals CaF2 |
| 可提供尺寸Available size | 3-200mm |
| 材料等级Material Grade | VIR，UV，DUV |
| 透过范围Transmittance range | 0.13-10μm |
| 晶体结构Crystal Structure | Monocrystalline |
| 晶向Orientation | <111>，<110>，<100>，<001>，<220> |
| 毛坯形状Blank shape | Round，rectangular，wedge，lens，step drilled，special-shaped |
氟化钙单晶与多晶的区别
1、晶体结构：氟化钙单晶具有明显的晶界线，是众多取向晶粒的单晶的集合，而多晶的内部以点阵式的周期性结构为基础，没有明显的晶界线。
2、透过率：氟化钙单晶和多晶的透过率相同，但在光学的延迟性能方面，单晶不如多晶。
3、化学性能：氟化钙单晶和多晶的化学性能相同，都具有优良的化学稳定性。
单晶氟化钙镀膜工艺
1、将待镀膜的基片或工件置于高真空室内。
2、通过加热使成膜材料气化或升华而淀积到基片或工件表面上，从而形成一层薄膜。
3、基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件。
4、蒸发源的类型、蒸发速率以及基片的温度等因素都会影响薄膜的质量。
单晶氟化钙如何制备
1、将天然荧石或用天然荧石制造的合成荧石的粉碎物与作为氟化剂的清除剂按一定比例混合得到混合物。
2、将混合物加热至高温区，并同时以一定速率降温，保持高温区加热器和低温区加热器温度差，使单晶从高温区向低温区生长。
3、当单晶生长到一定大小后，停止降温，保持恒温，让单晶完成生长。
4生长结束后，将石墨坩埚下降，待石墨坩埚下降结束后，恒温保持一段时间，开始降温。
5、当高温区加热器的温度降至与低温区加热器温度相同后，再对高温区加热器和低温区加热器同时降温，直至温度冷却到室温后，得到氟化钙单晶。
单晶氟化钙折射率是多少
单晶氟化钙的折射率为1.43。折射率的高低与光线的波长有关，当光从真空或空气中射入氟化钙晶体中时，光的传播速度会减慢，并且传播方向会发生改变。这种折射现象是由于光在不同介质中传播速度的差异引起的。
氟化钙用什么抛光磨料抛好
氟化钙的抛光磨料一般使用纳米颗粒、硅砂、金刚砂、氧化铝等。根据颗粒大小的不同，可以分为粗颗粒抛光粉和细颗粒抛光粉两种。
1、粗颗粒抛光粉：适用于镜片表面有较明显划痕和污垢的情况，一般使用频率较低。
2、细颗粒抛光粉：适用于轻微划痕和镜片表面光洁度的提升，使用频率较高。
