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多晶氟化镁

在光学性能方面具有高透过率、低热辐射、低散热及双折射等特性,尤其在中红波段具有很高的透过率。同时,它的机械强度较高,力学性能好,具有耐高温、高热冲击性能优异的特点。


此外,多晶氟化镁还具有耐酸碱腐蚀、耐海水、雨水侵蚀的特性,并具有低成本、易加工的优点。多晶氟化镁可以用于制作红外制导导弹的整流罩等厚头罩材料,也可以用于制作激光器、紫外光学系统、高能探测器等科技领域中的光学元件。在加工形状方面,可以根据实际需求定制圆形、矩形、开孔等多种类型。


多晶氟化镁是一种光学材料,具有优异的物理和化学性能,以及良好的光学性能。它广泛应用于光纤通信、军事工业和各种光学元件等领域。其是由颗粒分布均匀、粒径适当的高纯氟化镁粉末经高温、高压加工而成的。它具有四方晶系结构,熔点为1255℃,硬度高,力学性能好,化学性能稳定,不易潮解和腐蚀。在光学方面,多晶氟化镁具有优异的真空紫外波段透过率,并且具有良好的偏振作用和中红外波段的高透过率、低热辐射、散射和双折射性能。

多晶氟化镁可以用于制作各种光学元件,如反射镜、透镜等。它具有高硬度、良好的机械和化学性能、不易潮解和腐蚀等优点,因此在光学系统中具有广泛的应用前景。

材料数据表Material Data
光学特性Optical Properties
透过范围Transmission Range0.12-9μm
透过率Transmittance>90%@0.193-6μm
折射率Refractive Index

NO=1.566,Ne=1.568@0.13μm

NO=1.334,Ne=1.343@5μm

反射损耗Reflection Loss

11.2%@0.12nm(both surfaces)

5.7%@0.22μm(both surfaces)

5.1%@1μm(both surfaces)

吸收系数Absorption Coefficienet40×10-3@2.7μm
结构Structuresquare crystal system
解离面Cleavage Planes<100>
物理特性Physical Properties
密度Density[g/cm3]3.177
熔点Melting Point [℃]1255
热导率ThermalConductivity [W/(m×K)]21 //c, 33.6⊥c @ 300K
热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K]13.7//c, 8.9 ⊥c @ 373k
努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2]415
比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)]1003
介电常数Dielectric Constant4.87 //c, 5.44⊥c @ 1MHz
杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa]138.5
剪切模量Shear Modulus(G) [GPa]54.66
体积模量Bulk modulus(K) [GPa]101.32
泊松系数Poisson Coefficient0.276
化学特性Chemical Properties
溶解度Solubility / g/L0.002g @ 20℃
分子量Molecular Weight / g/mol62.3018




氟化镁透过率01氟化镁透过率02

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生长_副本1切割车间_副本切割_副本抛光车间_副本抛光2镀膜_副本镀膜非球面车间_副本非球面车间gyzo_副本zoyo

用途相关行业
红外光学应用红外光学窗口、整流罩等
太阳能电池太阳能电池的制备,作为增透膜和保护膜
电子设备电子设备
医疗抗菌应用医疗抗菌领域


定制规格
材料名称MaterialPolycrystalline MgF2
可提供尺寸Available size3-200mm
材料等级Material GradeVIR,UV
透过范围Transmittance range0.12-7.5μm
晶体结构Crystal StructurePolycrystalline
毛坯形状Blank shape

Round,rectangular,wedge,lens,step drilled,special-shaped


多晶氟化镁密度

密度为3.17g/cm³


多晶氟化镁规范

1、可以作为红外多晶或是紫外多晶材料,常用于保护窗口或是分析仪器传信号的透镜,或是镀膜靶材。

2、不能用作透镜,因为其双折射特性,会在聚焦时产生2个或多个像。

3、制备方式为以高纯MgF2为原料,在600~700℃温度和300MPa压力下,经真空热压烧结制成。


多晶氟化镁和单晶的区别

1、性能:

多晶氟化镁:具有优良的化学稳定性、热稳定性、高透过率,在可见光范围内具有高折射率,以及低密度等特性。多晶氟化镁薄膜的硬度比单晶氟化镁薄膜的硬度要低,但也能达到3000~4000维氏硬度。此外,多晶氟化镁的耐磨性比单晶氟化镁的耐磨性要差。

单晶氟化镁:具有优良的物理、化学和光学性能。它的硬度比多晶氟化镁要高,能达到6000~7000维氏硬度。此外,单晶氟化镁的耐磨性较好。

2、制备方式:

多晶氟化镁:以高纯MgF2为原料,在600~700℃温度和300MPa压力下,经真空热压烧结制成。

单晶氟化镁:在真空蒸镀中表现出优良的性能。

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