多晶氟化镁是一种光学材料，具有优异的物理和化学性能，以及良好的光学性能。它广泛应用于光纤通信、军事工业和各种光学元件等领域。其是由颗粒分布均匀、粒径适当的高纯氟化镁粉末经高温、高压加工而成的。它具有四方晶系结构，熔点为1255℃，硬度高，力学性能好，化学性能稳定，不易潮解和腐蚀。在光学方面，多晶氟化镁具有优异的真空紫外波段透过率，并且具有良好的偏振作用和中红外波段的高透过率、低热辐射、散射和双折射性能。
多晶氟化镁可以用于制作各种光学元件，如反射镜、透镜等。它具有高硬度、良好的机械和化学性能、不易潮解和腐蚀等优点，因此在光学系统中具有广泛的应用前景。
| 材料数据表Material Data |
| 光学特性Optical Properties |
| 透过范围Transmission Range | 0.12-9μm |
| 透过率Transmittance | >90%@0.193-6μm |
| 折射率Refractive Index | NO=1.566,Ne=1.568@0.13μm NO=1.334,Ne=1.343@5μm |
| 反射损耗Reflection Loss | 11.2%@0.12nm(both surfaces) 5.7%@0.22μm(both surfaces) 5.1%@1μm(both surfaces) |
| 吸收系数Absorption Coefficienet | 40×10-3@2.7μm |
| 结构Structure | square crystal system |
| 解离面Cleavage Planes | <100> |
| 物理特性Physical Properties |
| 密度Density[g/cm3] | 3.177 |
| 熔点Melting Point [℃] | 1255 |
| 热导率ThermalConductivity [W/(m×K)] | 21 //c, 33.6⊥c @ 300K |
| 热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K] | 13.7//c, 8.9 ⊥c @ 373k |
| 努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2] | 415 |
| 比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)] | 1003 |
| 介电常数Dielectric Constant | 4.87 //c, 5.44⊥c @ 1MHz |
| 杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa] | 138.5 |
| 剪切模量Shear Modulus(G) [GPa] | 54.66 |
| 体积模量Bulk modulus(K) [GPa] | 101.32 |
| 泊松系数Poisson Coefficient | 0.276 |
| 化学特性Chemical Properties |
| 溶解度Solubility / g/L | 0.002g @ 20℃ |
| 分子量Molecular Weight / g/mol | 62.3018 |
多晶氟化镁密度
密度为3.17g/cm³
多晶氟化镁规范
1、可以作为红外多晶或是紫外多晶材料，常用于保护窗口或是分析仪器传信号的透镜，或是镀膜靶材。
2、不能用作透镜，因为其双折射特性，会在聚焦时产生2个或多个像。
3、制备方式为以高纯MgF2为原料，在600~700℃温度和300MPa压力下，经真空热压烧结制成。
多晶氟化镁和单晶的区别
1、性能：
多晶氟化镁：具有优良的化学稳定性、热稳定性、高透过率，在可见光范围内具有高折射率，以及低密度等特性。多晶氟化镁薄膜的硬度比单晶氟化镁薄膜的硬度要低，但也能达到3000~4000维氏硬度。此外，多晶氟化镁的耐磨性比单晶氟化镁的耐磨性要差。
单晶氟化镁：具有优良的物理、化学和光学性能。它的硬度比多晶氟化镁要高，能达到6000~7000维氏硬度。此外，单晶氟化镁的耐磨性较好。
2、制备方式：
多晶氟化镁：以高纯MgF2为原料，在600~700℃温度和300MPa压力下，经真空热压烧结制成。
单晶氟化镁：在真空蒸镀中表现出优良的性能。
